平面拋光師把拋光分為兩個(gè)階段。粗磨的目的是去除磨損損傷層，使其達(dá)到最大拋光速度。由粗拋引起的表面損傷是次要考慮因素，但應(yīng)盡量小。第二個(gè)是完成（或最后拋），目的是消除表面粗糙造成的損害，并盡量減少拋光損傷。

    拋光機(jī)拋光時(shí)，試樣研磨面和拋光盤(pán)應(yīng)完全平行并均勻地壓在閥瓣上，防止樣品因壓力過(guò)大而飛出并產(chǎn)生新的磨損痕跡。同時(shí)還應(yīng)使樣品旋轉(zhuǎn)，并沿車輪半徑方向來(lái)回移動(dòng)，以避免在打磨拋光布過(guò)程中局部磨損過(guò)快，保持粉漿的加入，使拋光布保持一定的濕度。

    濕度過(guò)大，降低了拋光的磨損效果，使試樣中的硬相呈現(xiàn)鋼中的浮凸和非金屬夾雜物以及鑄鐵中的石墨的"拖尾"現(xiàn)象。濕度太小，因?yàn)槟Σ翢釙?huì)使樣品升溫，潤(rùn)滑效果會(huì)降低，磨削表面會(huì)失去光澤，甚至?xí)霈F(xiàn)黑斑，而輕合金會(huì)拋出表面。

    為了實(shí)現(xiàn)粗加工的目的，平面拋光機(jī)需要的轉(zhuǎn)速較低，最好不超過(guò)600r/min;拋光時(shí)間應(yīng)當(dāng)比去掉劃痕不再因?yàn)樽冃螌討?yīng)去除。粗拋光后，磨削表面光滑，但表面粗糙。在顯微鏡下，有一個(gè)均勻的細(xì)磨痕，有待消除。